• Українська
  • English

< | >

Список № 3 Том. 62    УФЖ 2017, Том. 62, № 3, стp. 206-211
         Стаття тільки англійською

Гладковський В.В., Федорович О.А.

Institute for Nuclear Research, Nat. Acad. of Sci. of Ukraine
(47, Nauky Ave., Kyiv 03028, Ukraine; e-mail: v.glad2010@yandex.ua)

Спектроскопічні дослідження плазми високочастотного розряду при плазмохімічному травленні епітаксіальних структур нітриду галію

Розділ: Плазма і гази
Оригінал тексту:  Український

Абстракт: Приведено результати експериментальних дослiджень впливу напруги змiщення на еволюцiю спектрiв випромiнювання плазми при травленнi нiтриду галiю в плазмохiмiчному реакторi (ПХР) з керованими магнiтними полями. При значеннях напруги змiщення бiльших за –250 В на спектрах випромiнювання плазми з’являються лiнiї, що належать збудженим атомам матерiалiв, з яких виготовлений робочий електрод. Пiд впливом вiд’ємного потенцiалу проходить розпилення активного електрода i переосадження iонiв металу на поверхню зразка, який обробляється, що приводить до зменшення швидкостi травлення.

Ключові слова: bias voltage, plasma-chemical etching, sputtering, plasma-chemical reactor, radio-frequency discharge, optical spectroscopy.